• <kbd id="w80qg"></kbd>
  • <s id="w80qg"></s>
    <option id="w80qg"><label id="w80qg"></label></option>
    <table id="w80qg"><u id="w80qg"></u></table>

    熱門關鍵詞: 氣體純化 氣體回收 配氣設備 制氮機 氨分解制氫設備

    您的位置: 首頁  /  新聞動態  /  行業動態
    氬氣氣體純化的方法
    來源: 蘇州晟宇氣體設備有限公司 發布日期: 2021.12.07

    氬氣氣體純化的方法

    一、 概述

    氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣體,為了提高硅晶體的質量,如何選用較高純度的氬氣,是制作硅晶體的一個議題。通過對本裝置的使用,氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時,水分也小于1ppm時,制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,這樣就提高了單晶的使用壽命并能達到要求,贏得客戶的滿意和市場的需求。

    由于一般液氬汽化后未經過純化處理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時氣體供應商提供的氬氣超過了此范圍,使用氬氣的客戶不知道其質量,所以往往給生產產品質量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質量如何,只要經過純化裝置的處理后,進入拉晶爐的氬氣,純度始終是恒定的。

    一般氧含量小于0.5ppm,水分小于1ppm,這樣穩定的氬氣對生產晶體的質量是有保證的。

    高純氬氣純化系統

    二、 關于氬氣純化的方法

    一種直接脫氧法。就是使用活性金屬與氬氣中的氧氣進行反應,消化掉氬氣中的氧氣,從而達到脫氧的目的,經過分子篩吸收掉氬氣中的水份,使氬氣的含水量小于1ppm。


    第二種是采用吸氣劑。在一定溫度下,吸氣劑可吸收氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等氣體經吸收處理后,氬氣的純度可達到6個九,這種保護氣體更適用于制作高純度的半導體的單晶硅。

    利用吸氣劑純化后氬氣的純度:

    O2≤0.2ppm

    H2≤0.5ppm

    N2≤1ppm

    CO+CO2≤0.5ppm

    CH4≤0.5ppm

    水份≤1ppm

    一種方法設備投資小,設備中脫氧劑的使用壽命一般大于四年。

    第二種方法設備純化純度高但投資相對較大,吸氣劑使用壽命為兩年。

    還可根據客戶要求,配備分析儀在線時時檢測設備中氣體純度。

    三、氬氣用途

    高純氬氣用于焊接、不銹鋼制造、冶煉,還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣。


    【相關推薦】

    咨詢熱線

    13812769151
    免费人成a片在线观看网站_久久永久免费人妻精品下载_日本aⅴ大伊香蕉精品视频_大屁股熟女白浆一区二区